本周行业观点
晶圆抛光垫国产化曙光显现,未来国产替代空间值得憧憬
化学机械抛光(CMP)是利用抛光机、抛光液、抛光垫、抛光布在一定的工艺条件下实现材料表面高平坦化的一种技术。http://www.hibor.com.cn【慧博投研资讯】在晶圆制造中,随着制程技术的升级,导线与栅极的尺寸越来越小,光刻技术对晶圆表面的平坦程度的要求越来越高,化学机械抛平坦化(CMP)是目前国际公认的唯一能对亚微米经器件提供全局平面化的技术。http://www.hibor.com.cn(慧博投研资讯)
伴随着全球半导体市场的增长,CMP 材料的需求量日益增加。集成电路技术的高速发展使得逻辑集成电路的芯片层数增加、存储集成电路用芯片的需求量扩大以及晶体管的三维立体化等,也将使得 CMP 工序显著增加,增加CMP材料的用量。据集成电路材料联盟统计,2015年全球集成电路CMP抛光垫的需求约为7.5亿美元,预计到2020年将增长到12.5亿美元。近年来,在国家和产业的大力投入下,我国集成电路制造业得到了快速发展,2016 年产值首度超过 1000 亿元,达到 1126.9 亿元,2017 年上半年,产业规模达到 571亿元,同比增长25.6%。根据SEMI估计,2017-2020年间全球投产62座半导体晶圆厂,其中26座位于中国大陆,占比高达 42%。集成电路制造领域产能的大量投放将带来对 CMP 抛光垫等上游相关材料的旺盛需求。2016 年,CMP 材料在华导体材料中占比达 7%,而抛光垫价值占抛光材料的约 60%。
目前,全球芯片抛光垫主要被陶氏垄断,其占据了集成电路芯片和蓝宝石两个领域所需要的抛光垫 90%的市场份额。此外,3M、卡博特、日本东丽、台湾三方化学等也可生产部分芯片用抛光垫。国内方面,陶氏在 20 寸和 30 寸抛光垫市场中分别占据 83%和 89%的市场份额。抛光垫行业技术壁垒高,验证周期长,在国家半导体材料国产化要求下,国内厂商有望从8寸晶圆低端领域逐渐切入。江丰电子于2016年11月和美国嘉柏正式宣布就半导体集成电路化学机械研磨用(CMP)抛光垫项目进行合作,并已取得国内主流芯片生产厂商的认证。鼎龙股份于 2016 年投入 CMP 抛光垫项目的试生产,一期项目 2018 年有望放量,目前产品正在下游客户送样测试,验证客户涵盖中芯国际、武汉新芯等。时代立夫目前可批量生产 8 寸 CMP 抛光垫,并于 2016 年中期开始向中芯国际、华虹宏力、中航微电子等国内主要半导体制造厂商进行少量销售。
风险提示:国家扶持力度不及预期;认证进度低于预期;国外厂商产品降价打压本土产业。